پلازما کلینرز کی مخصوص ایپلی کیشنز

پلازما کی صفائی/اینچنگ مشینیں بجلی کا فیلڈ بنانے کے لئے مہر بند کنٹینر میں دو الیکٹروڈ رکھ کر پلازما پیدا کرتی ہیں۔ ویکیوم پمپ کا استعمال کسی خاص ویکیوم کی سطح کو برقرار رکھنے کے لئے کیا جاتا ہے۔ چونکہ گیس تیزی سے نایاب ہوجاتی ہے ، انووں کے درمیان فاصلہ اور انووں یا آئنوں کی آزادانہ نقل و حرکت میں بھی اضافہ ہوتا ہے۔ برقی فیلڈ کے اثر و رسوخ کے تحت ، یہ آئن آپس میں ٹکرا جاتے ہیں اور پلازما تشکیل دیتے ہیں۔ یہ آئن انتہائی رد عمل ہیں ، تقریبا all تمام کیمیائی بانڈوں کو توڑنے کے ل enough کافی توانائی کے ساتھ ، کسی بھی بے نقاب سطح پر کیمیائی رد عمل کو جنم دیتے ہیں۔ مختلف گیس پلازما میں مختلف کیمیائی خصوصیات ہیں۔ مثال کے طور پر ، آکسیجن پلازما انتہائی آکسائڈائزنگ ہے ، جو گیس پیدا کرنے کے لئے فوٹوورسٹسٹ کو آکسائڈائزنگ کرنے کی صلاحیت رکھتا ہے ، اس طرح صفائی کا اثر حاصل ہوتا ہے۔ سنکنرن گیس پلازما میں عمدہ انوسوٹروپی ہے ، جو اینچنگ کی ضروریات کو پورا کرتی ہے۔ پلازما علاج ایک چمک پیدا کرتا ہے ، لہذا نام گلو ڈسچارج۔
پلازما کی صفائی کا طریقہ کار بنیادی طور پر سطح کے داغوں کو دور کرنے کے لئے پلازما میں فعال ذرات کی "ایکٹیویشن" پر انحصار کرتا ہے۔ رد عمل کے طریقہ کار کے لحاظ سے ، پلازما کی صفائی میں عام طور پر مندرجہ ذیل عمل شامل ہوتا ہے: غیر نامیاتی گیسیں پلازما کی حالت میں پرجوش ہیں۔ گیس مادہ ٹھوس سطح پر جذب کیا جاتا ہے۔ اشتہار والے گروہوں کو ٹھوس سطح پر انووں کے ساتھ رد عمل ظاہر ہوتا ہے تاکہ مصنوعات کے انو تشکیل سکیں۔ مصنوعات کے انو گیس کے مرحلے میں گل جاتے ہیں۔ اور رد عمل کی باقیات کو سطح سے ہٹا دیا جاتا ہے۔

پلازما صفائی کرنے والی ٹکنالوجی کی سب سے اہم خصوصیت یہ ہے کہ وہ کسی بھی ذیلی قسم کی قسم کا علاج کرسکتا ہے ، بشمول دھاتیں ، سیمیکمڈکٹرز ، آکسائڈس ، اور زیادہ تر پولیمر مواد جیسے پولی پروپیلین ، پولی پروپیلین ، پولیئمائڈ ، پولیمائڈ ، پولیونائل کلورائد ، ایپوکسی ، اور یہاں تک کہ پولیٹ ٹرافلوورویتھیلین بھی۔ یہ پوری سطح اور مخصوص علاقوں کے ساتھ ساتھ پیچیدہ ڈھانچے کو بھی صاف کرسکتا ہے۔